XPG2型高速光刻系统

简介： XPG2型电子束光刻系统与扫描电镜或FIB联用，即形成一套先进的高速纳米光刻系统。 

产品概述：

• Writing Speed: up to 40 Mpixels/s
• Resolution: 16 Bit with ultra low noise interface, writing field size of 50000 x 50000 pixels
• Implemented Shapes: dot, single pixel line, rectangular primitives (spiral or meanderfill),
trapezoidals, triangles, parallelograms, arrays, 3rd order polynomials, circles, rings or
ring segments, import of image files (*.bmp, *.jpg ...), GDS II and AutoCad *.dxf
• Writing Clock: 10 kHz up to 40 MHz in 1 kHz increments
• Digital Full Bandwidth Field Correction: scaling, rotation, orthogonality, shift
• Mark Detection Input: analog input for image detector output (adjustable gain and offset)
with 12 Bit sampling, single line scan, selected area or full frame
• Deflection Outputs: Analog outputs up to +/- 10 V (galvanically isolated, adjustable)
• Blanker Output: TTL output with adjustable polarity or optional fibre optics output
• PC Interface: USB 2.0 compliant for pattern data, video data transmission, system control
and firmware boot

• Exposure Patterns: design of shapes (with hierarchy), dose and field size within the design
• Batch Processing Files: design of size and position of multiple writing fields for larger areas
(with stitching between fields), controls for writing scheme (calibration, alignment, beam
current control, user breaks...), automated cutting of shapes
• Stage Control: mapping of user coordinates, homing, absolute and relative positioning,
predefined positions
• Focus, Field and Stage Calibration: calibration of deflection and stage coordinates (relative
to laser interferometer coordinates if installed), feedback of the mechanical stage
misalignment
• Mark Detection and Alignment: calculation of field correction parameters, scan control of the
alignment marks